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不銹鋼屏風掩蔽法化學鍍特點
不銹鋼屏風掩蔽法鍍液中加入一種對雜質起掩蔽作用的掩蔽劑,從而消除雜質有害影響的方法。這種方法既不需要過濾鍍液,又不需要其他處理設備,是一種簡便可行的好方法。
 如氨三乙釀-氯化鐵鍍鋅液中有少量鋼雜質存在時,會使不銹鋼屏風鍍鋅層的鈍化膜光澤不好。這時只要適當提高鍍鋅液中硫脲的含量,少量銅雜質就被掩蔽,不良影響很快就消失,硫酸鹽鍍銅液中有少量砷和銻存在時,會使鍍層發暗,表面略有粗糙,這時只要加入適量的明膠和丹寧酸,就能掩蔽這些有害影響。
 
 焦磷鼓鹽鍍銅液中,若有少量鐵雜質影響鍍層質量時,可加入適量的檸檬酸鹽進行掩蔽,又如光亮鍍鎳液中有少量的鋅雜質存在,會使不銹鋼屏風鍍件低電流密度區的鍍層灰暗甚至發黑,這時只要加入適量的“NT”鍍鎳液雜質掩蔽劑,攪拌片刻,有害影響立即消失,獲得了全光亮的不銹鋼屏風鍍層。這些掩蔽劑既不與有害雜質生成沉淀,也不需要用活性炭等其他方法作進一步的處理,所以這是凈化鍍液最簡便的方法。
 與其他金屬工藝品使用的電鍍工藝相比,化學鍍具有以下特點:
 ①鍍層厚度非常均勻,化學鍍液的分散力接近100%,無明顯的邊緣效應,幾乎是基材形狀的復制,因此特別適合形狀復雜金屬工藝品(包括腔體、深孔、盲孔、管件內壁等金屬工藝品)表面施鍍。電鍍法因受電力線分市不均勻的限制是很難做到的。由于化學鍍層厚度均勻、又易于控制,表面光潔平整,一般均不需要鍍后加工,適宜做加工件超差的修復及選擇性施鍍。
 ②通過敏化、活化等前處理,化學鍍可以在非金屬(非導體)如塑料、玻璃、陶瓷及半導體材料表面上進行,而電鍍法只能在導體表面上施鍍,所以化學鍍工藝是非金屬表面金屬化的常用方法,也是非導體材料電鍍前做導電底層的方法。
 ③工藝設備簡單,不需要電源、輸電系統及輔助電極,操作時只需把工件正確懸掛在鍍液中即可。
 ④化學鍍依靠基材的自催化活性起鍍,其結合力一般均優于電鍍。鍍層有光亮或半光亮的外觀、晶粒細、致密、孔隙率低,某些化學鍍層還具有其他特殊的物理化學性能。

 不過,電鍍工藝也有其不能為化學鍍所代替的優點,首先是可以沉積的金屬及合金品種遠多于化學鍍;其次是價格比化學鍍低得多,工藝成熟,鍍液簡單易于控制。化學鍍鍍液內氧化劑(金屬離子)與還原劑共存,鍍液穩定性差;而且沉積速度慢、溫度較高、溶液維護比較麻煩、實用可鍍金屬種類較少。


 
 
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